北京
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国家知的財産権局の申長雨局長は11日、第13期全国人民代表大会第2回会議の記者会見で、「知的財産権審査の質や効率のさらなる向上へ策を講じていく」と述べました。
申局長は、「中国は5年以内に、商標の審査期間を過去の8カ月から4カ月以内に短縮し、経済協力開発機構(OECD)の中で最速レベルとしていく。また、特許の審査期間は平均で3分の2とし、価値の高いものについては半分以上短縮させ、世界最速レベルにする」と述べました。
申局長はまた、「去年は、審査員の充実化や自動審査システムの構築などにより、審査の質や効率を高めた。商標の審査期間は6カ月以内になり、価値の高い特許の審査期間は10%短縮した」と述べました。(玉華、森)